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Cita APA (7a ed.)
Habuka, H. (2012). Etching of Silicon Carbide Using Chlorine Trifluoride Gas. IntechOpen. https://doi.org/10.5772/50387
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Cita Chicago Style (17a ed.)
Habuka, Hitoshi. Etching of Silicon Carbide Using Chlorine Trifluoride Gas. IntechOpen, 2012. https://doi.org/10.5772/50387.
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Cita MLA (9a ed.)
Habuka, Hitoshi. Etching of Silicon Carbide Using Chlorine Trifluoride Gas. IntechOpen, 2012. https://doi.org/10.5772/50387.
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