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Cita APA (7a ed.)
Huang, A. P., Yang, Z. C., & Chu, P. K. (2010). Hafnium-based High-k Gate Dielectrics. IntechOpen. https://doi.org/10.5772/8631
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Cita Chicago Style (17a ed.)
Huang, A. P., Z. C. Yang, y Paul K. Chu. Hafnium-based High-k Gate Dielectrics. IntechOpen, 2010. https://doi.org/10.5772/8631.
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Cita MLA (9a ed.)
Huang, A. P., et al. Hafnium-based High-k Gate Dielectrics. IntechOpen, 2010. https://doi.org/10.5772/8631.
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