Silicon technologies : ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
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| Otros Autores: | |
|---|---|
| Formato: | Electrónico eBook |
| Lenguaje: | inglés |
| Publicado: |
London :
ISTE ;
2011.
Hoboken, N.J. : Wiley, 2011. |
| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://elibro.net/ereader/ipchile/187968 |
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