Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos

Autores principales:	Rojas Sanchéz, César Enrique, Sarmiento Santos, Armando, Vera López, Enrique
Formato:	Artículo
Lenguaje:	español
Publicado:	Universidad Pedágogica y Tecnológica de Colombia (UPTC) 2013
Acceso en línea:	https://dialnet.unirioja.es/servlet/oaiart?codigo=5029417
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