Fabrication and Study on One-Transistor-Capacitor Structure of Nonvolatile Random Access Memory TFT Devices Using Ferroelectric Gated Oxide Film

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Cheng, Chien-Min, Chen, Kai-Huang, Lin, Chun-Cheng, Chen, Ying-Chung, Chen, Chih-Sheng, Chang, Ping-Kuan
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2011
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/16179
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