Studies on Electrical and Retention Enhancement Properties of Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor with Radical Irradiation Treatments

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Hai, Le Van, Kanashima, Takeshi, Okuyama, Masanori
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2011
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/18042
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