Electron Beam Lithography for Fine Dot Arrays with Nanometer-Sized Dot and Pitch

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Hosaka, Sumio
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2011
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/24489
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