Emerging Maskless Nanolithography Based on Novel Diffraction Gratings

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Cheng, Guanxiao, Yang, Yong, Hu, Chao, Xu, Ping, Song, Helun, Xing, Tingwen, Meng, Max Q.-H.
Formato:	Capítulo de libro
Lenguaje:	inglés
Publicado:	IntechOpen 2011
Materias:	Physical Sciences, Engineering and Technology
Acceso en línea:	https://www.intechopen.com/chapters/24505
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