Extremely Wetting Pattern by Photocatalytic Lithography and Its Application

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Lai, Yuekun, Lin, Changjian, Chen, Zhong
Formato:	Capítulo de libro
Lenguaje:	inglés
Publicado:	IntechOpen 2011
Materias:	Physical Sciences, Engineering and Technology
Acceso en línea:	https://www.intechopen.com/chapters/24517
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