Plasma-Chemical Kinetics of Film Deposition in Argon-Methane and Argon-Acetylene Mixtures Under Atmospheric Pressure Conditions

None

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Pothiraja, Ramasamy, Bibinov, Nikita, Awakowicz, Peter
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2012
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/29720
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