AFM Application in III-Nitride Materials and Devices

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Chen, Z., Su, L.W., Shi, J.Y., Wang, X.L., Tang, C.L., Gao, P.
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2012
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/33452
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