Formation of Ultrahigh Density Quantum Dots Epitaxially Grown on Si Substrates Using Ultrathin SiO2 Film Technique

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Nakamura, Yoshiaki, Ichikawa, Masakazu
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2012
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/37407
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