Recent Progress of Plasma CVD for Structure Controlled Growth of Single-Walled Carbon Nanotubes

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Kato, Toshiaki, Hatakeyama, Rikizo
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2013
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/41264
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Descripción
Sumario:None
ISBN:978-953-51-1002-6
DOI:10.5772/51966