Characterization of Sol-Gel-Derived and Crystallized HfO2, ZrO2, ZrO2-Y2O3 Thin Films on Si(001) Wafers with High Dielectric Constant

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Shimizu, Hirofumi, Nishide, Toshikazu
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2012
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/36362
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