Stress Measurements in Si and SiGe by Liquid-Immersion Raman Spectroscopy

None

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Kosemura, Daisuke, Tomita, Motohiro, Usuda, Koji, Ogura, Atsushi
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2012
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/38539
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!