Recent Advances in Two-Photon Stereolithography

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Spangenberg, Arnaud, Hobeika, Nelly, Stehlin, Fabrice, Malval, Jean-Pierre, Wieder, Fernand, Prabhakaran, Prem, Soppera, Patrice Baldeck and Olivier
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:inglés
Publicado: IntechOpen 2013
Materias:
Acceso en línea:https://www.intechopen.com/chapters/43931
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